Innovazzjoni tat-Teknoloġija tal-Kisi - Kisi tal-Kisi Al2O3 skont il-Proċess tal-PVD Mill-wirja EMO fl-2005 ħabbret avvanz fil-kisi ta 'kisi AL 2 O 3 bl-użu ta' PVD, il-kumpanija Olandiża Hauzer ikkoopera mal-manifatturi ewlenin tad-dinja tal-għodda fl-ittestjar tal-prestazzjoni tal-kisi. Ir-riżultati tat-test jikkonfermaw ir-riżultati tal-kisi ppubblikati qabel fir-rivista Hauzer għalik 10: il-kisi AL 2 O 3 miksi bil-proċess PVD għandu adeżjoni eċċellenti, proprjetajiet kimiċi stabbli, u eċċellenti f'temperaturi sa 1100 ° C. Reżistenza għall-ilbies tal-krater u ebusija għolja. Deskrizzjoni tal-proċess Din is-sistema ta 'kisi ġdida tuża teknika ta' kisi ibrida biex tinkiseb deposizzjoni tal-kisi. Din it-teknoloġija tgħaqqad l-evaporazzjoni tal-ark katodiku ma 'magnetron tat-tubu sputtering fl-istess proċess. Il-kisi Tialn iddepożitat bl-ark jaġixxi bħala saff ta 'parità fis-sistema tal-kisi u / jew jipprovdi r-reżistenza meħtieġa għall-brix għas-sistema tal-kisi; Il-kisi Al 2 O 3 jipprovdi stabbiltà tat-temperatura għolja għas-sistema u l-istabbiltà kimika. F'sistema tipika ta 'kisi ibridu, ġew installati diversi katodi ta' sputtering ta 'ark u magnetron. Qabel id-deposizzjoni, il-biċċa tax-xogħol tissaħħan għat-temperatura operattiva u l-pressjoni tas-sistema titnaqqas għall-pressjoni bażi. Wara li l-biċċa tax-xogħol hija soġġetta